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龙8国际|上体育课课用跳D的感觉|芯片制造的核心设备:光刻机

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  光刻机的制造和维护需要高度的光学和基础ღ◈✿,能够掌握这项技术的厂商寥寥无几ღ◈✿,目前比较知名的光刻机厂商有尼康ღ◈✿、佳能ღ◈✿、ABMღ◈✿、欧泰克ღ◈✿、上海微电子装备ღ◈✿、SUSS等ღ◈✿,但是在顶级光刻机领域ღ◈✿,荷兰的ASML公司几乎垄断了整个市场上体育课课用跳D的感觉ღ◈✿,占据超过70%的高端光刻机市场ღ◈✿,且最新的产品EUV光刻机研发成本巨大ღ◈✿,售价高达1亿美元ღ◈✿,但依旧供不应求ღ◈✿。

  荷兰ASML公司有一个模式ღ◈✿,那就是只有投资它的公司才能够优先得到他们的顶级光刻机ღ◈✿。例如蔡司就是投资了ASMLღ◈✿,占据了它超过20%的股份ღ◈✿。这些公司不单单投资它ღ◈✿,也给它提供最新的技术上体育课课用跳D的感觉ღ◈✿,这样它就不是孤军奋战状态ღ◈✿,做到了技术分工ღ◈✿。英特尔ღ◈✿、台积电笔三星都主动出资入股ASML支持研发ღ◈✿,并有技术人员驻厂ღ◈✿,格罗方德龙8国际ღ◈✿、联电及中芯国际等的光刻机主要也是来自ASMLღ◈✿,以此优先获得它的最先顶级的光刻机ღ◈✿。

  ASML公司在2019年年报中上体育课课用跳D的感觉ღ◈✿,披露了关于下一代EUV极紫光刻机的研发进程ღ◈✿。预计2022年年初开始出货ღ◈✿,2024年实现大规模生产ღ◈✿。根据ASML之前的报告ღ◈✿,去年该公司出货了26台EUV光刻机ღ◈✿,预计2020年交付35台EUV光刻机ღ◈✿,2021年则会达到45台到50台的交付量龙8国际ღ◈✿,是2019年的两倍左右ღ◈✿。

  半导体设备分为晶圆加工设备ღ◈✿、检测设备ღ◈✿、封装设备和其他设备ღ◈✿。晶圆加工设备中ღ◈✿,光刻机ღ◈✿、刻蚀机ღ◈✿、薄膜沉积设备(PVD和CVD)技术难度最高ღ◈✿,三者占比分别为30%ღ◈✿、25%ღ◈✿、25%ღ◈✿。

  半导体设备高门槛导致竞争格局高度集中ღ◈✿。目前全球半导体设备市场主要被美国ღ◈✿、日本ღ◈✿、荷兰企业所垄断ღ◈✿。半导体设备行业前10家公司2007年市占率合计66%ღ◈✿,到2018年市占率合计达到81%ღ◈✿,提升了15个百分点ღ◈✿;前五家公司2007年市占率合计57%ღ◈✿,到2018年市占率合计达到71%ღ◈✿,提升了14个百分点ღ◈✿。2018年全球半导体设备榜单前五名包括应用材料ღ◈✿、东京电子ღ◈✿、拉姆研究ღ◈✿、ASML和科磊半导体ღ◈✿。除ASML外ღ◈✿,各家公司产品线均比较丰富ღ◈✿,且前三名企业营收均超过一百亿美元ღ◈✿。行业CR5占比75%ღ◈✿,CR10占比91%ღ◈✿。全球半导体设备竞争格局呈现高度集中状态ღ◈✿。

  光刻机是生产线上最贵的机台ღ◈✿,千万-亿美元/台ღ◈✿。主要是贵在成像系统和定位系统ღ◈✿。一般来说一条产线需要几台光刻机ღ◈✿,其折旧速度非常快ღ◈✿,大约3~9万人民币/天ღ◈✿,所以也称之为印钞机上体育课课用跳D的感觉ღ◈✿。光刻机工作原理ღ◈✿:光刻机通过一系列的光源能量ღ◈✿、形状控制手段ღ◈✿,将光束透射过画着线路图的掩模ღ◈✿,经物镜补偿各种光学误差ღ◈✿,将线路图成比例缩小后映射到硅片上ღ◈✿,然后使用化学方法显影ღ◈✿,得到刻在硅片上的电路图ღ◈✿。

  光源作为光刻机的核心构成ღ◈✿,很大程度上决定了光刻机的工艺水平ღ◈✿。光源的变迁先后经历ღ◈✿:(a)紫外光源(UVღ◈✿:UltravioletLight)ღ◈✿,波长最小缩小至365nmღ◈✿;(b)深紫外光源(DUVღ◈✿:DeepUltravioletLight)ღ◈✿,其中ArFImmersion实际等效波长为134nmღ◈✿;(c)极紫外光源(EUVღ◈✿:ExtremeUltravioletLight)ღ◈✿,目前大部分最高工艺制程半导体芯片均采用EUV光源ღ◈✿。

  在集成电路制造工艺中ღ◈✿,光刻是决定集成电路集成度的核心工序ღ◈✿,在整个硅片加工成本中占到1/3ღ◈✿。光刻的本质是把掩膜版上临时的电路结构复制到以后要进行刻蚀和离子注入的硅片上ღ◈✿。

  从光刻机结构来看ღ◈✿,它由光源ღ◈✿、光学镜片和对准系统等部件组成上体育课课用跳D的感觉ღ◈✿,其工艺中十分关键的两个元素是光刻胶和掩膜版ღ◈✿。而光刻处理后的晶圆片再经刻蚀和沉积等过程制成芯片成品ღ◈✿,用于电脑手机等各种设备之中ღ◈✿。下游旺盛的终端市场需求决定了光刻设备必然也面临巨大的需求ღ◈✿。光刻设备厂商的下游客户主要在于存储和逻辑芯片制造商ღ◈✿。

  从全球角度来看ღ◈✿,高精度IC芯片光刻机长期由ASMLღ◈✿、尼康和佳能三家把持ღ◈✿。ASMLღ◈✿,尼康龙8国际ღ◈✿,佳能三家公司几乎占据了99%的市场份额ღ◈✿,其中ASML光刻机市场份额常年在70%以上ღ◈✿,市场地位极其稳固ღ◈✿。光刻机研发的技术门槛和资金门槛非常高ღ◈✿,也正是因此龙8国际ღ◈✿,能生产高端光刻机的厂商非常少ღ◈✿,到最先进的14-7nm光刻机就只剩下ASML能生产ღ◈✿,日本佳能和尼康已经基本放弃EUV光刻机的研发ღ◈✿。

  前四代光刻机使用都属于深紫外光ღ◈✿,ArF已经最高可以实现22nm的芯片制程ღ◈✿,但在摩尔定律的推动下ღ◈✿,半导体产业对于芯片的需求已经发展到14nmღ◈✿,甚至是7nmღ◈✿,浸入式光刻面临更为严峻的镜头孔径和材料挑战ღ◈✿。第五代EUV光刻机ღ◈✿,采用极紫外光ღ◈✿,可将最小工艺节点推进至7nmღ◈✿。5nm及以下工艺必须依靠EUV光刻机才能实现ღ◈✿。随着半导体制造工艺向7nm以下持续延伸ღ◈✿,EUV光刻机的需求将进一步增加ღ◈✿。

  2018年我国半导体设备十强单位完成销售收入94.97亿元ღ◈✿,同比增长24.6%ღ◈✿。国内光刻机厂商有上海微电子ღ◈✿、中电科集团四十五研究所ღ◈✿、合肥芯硕半导体等ღ◈✿。上海微电子是国内顶尖的光刻机制造商ღ◈✿,根据电子工程世界资料龙8国际ღ◈✿,近年来公司通过积极研发ღ◈✿,已实现90nm节点光刻机的量产ღ◈✿,并有望延伸至65nm和45nmღ◈✿。由于制程上的差距非常大ღ◈✿,国内晶圆厂所需的高端光刻机只能完全依赖进口ღ◈✿。

  在《瓦森纳协定》的封锁下ღ◈✿,高端光刻机在中国被禁售上体育课课用跳D的感觉ღ◈✿,即使中端光刻机也有保留条款—禁止给国内自主CPU做代工ღ◈✿,导致自主技术成长困难重重ღ◈✿,光刻机国产化仍有很长的路要走ღ◈✿。

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